مجله فصل مشترک ها، لایه های نازک و سیستم های با بعد کم
سنتز ریزساختار الماس و مواد مرتبط در CH4/H2 مختلف در گازهای واکنش دهنده
نوع مقاله : مقاله پژوهشی
چکیده
ساختار الماس با استفاده از روش DC-PECVD در CH4/H2 مختلف در گازهای واکنش دهنده (CH4/H2 = 2، 5 و 7 حجم درصد) با موفقیت بر روی زیرلایه Si پوشش داده شده با طلا انباشت شد. خصوصیات ساختار الماس با پراش پرتو ایکس (XRD)، طیف‌سنجی رامان (RS)، میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) به تفصیل بررسی شده است. نتایج اثر CH4 / H2 مختلف در گازهای واکنش دهنده را بر کریستالی، فاز، مورفولوژی سطح و ریزساختار تعیین کرد. الگوهای XRD ساختار چند کریستالی با جهت گیری رشد ترجیحی الماس (111) و کیفیت کریستالی بهتر در غلظت های متوسط متان را نشان دادند. پیک مرتبه اول رامان برای فاز الماس در غلظت‌های متوسط متان شدیدتر بود، در حالی که یک باند G نسبتاً وسیع از گونه‌های گرافیتی ظاهر شد. سازه های الماس با اندازه دانه های بزرگ در محدوده میکرون یا ده ها میکرون دارای سطح همگن هستند.
کلیدواژه‌ها
موضوعات
)